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Dépôt de couches minces
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Histoire du musée
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Notre laboratoire de dépôt de couches minces offre des services de conception et de fabrication sur mesure aux chercheurs et aux entreprises. Nos experts peuvent concevoir le revêtement correspondant le mieux à vos besoins et en optimiser le procédé de fabrication. Nos technologies offrent une grande flexibilité quant à la composition, l’épaisseur, la densité et le nombre de couches afin de réaliser de nombreux composants comme des miroirs, des filtres optiques et beaucoup plus. Contactez-nous pour une évaluation de la faisabilité de votre projet.
Technologies
LEYBOLD SYRUS PRO 710
Oxyde : Ti3O5 , Ta2O5 ,HfO2 , Al2O3
Silice : SiO2
Évaporation par faisceau d’électrons assisté d’un plasma d’ions (APS) avec mesure optique in-situ de l’épaisseur (400-2500 nm); dépôt de multicouches (max 100).
INTLVAC NANOCHROME
Cibles : Ta, Al, V, W, Nb, Si
Gaz réactifs : O2 , N2 , C2H6
Pulvérisation AC-double magnétrons de sources métalliques puis dépôt d’oxyde/ nitrures par la source ionique; dépôt de multicouches (max 100) de densité optimisée.
AUTRES SYSTÈMES
- Intlvac Nanochrome : Système d’évaporation thermique et faisceau d’électrons dédié aux couches épaisses et aux matériaux infrarouges.
- Système d’évaporation par faisceau d’électrons pour dépôt (SiO2 , ZnS, MgF2 , YbF3 , Al2O3 , etc.).
- Évaporateur thermique par effet joule pour dépôt de Cr, Au, Al, Ag, Cu dédié à la fabrication de miroirs métalliques et de couches plasmoniques.
